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沈陽東創貴金屬材料有限公司
主營：貴金屬材料
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背靶的選擇
對材質的要求：一般選用無氧銅和鉬靶，厚度在3mm左右
導電性好：常用無氧銅，無氧銅的導熱性比紫銅好；
強度足夠：太薄，易變形，不易真空密封。
結構要求：空心或者實心結構；
厚度適中：3mm左右，太厚，香檳金靶材技術，消耗部分磁強；太薄，容易變形。
銦焊綁定的流程
1.綁定前的靶材和背板表面預處理
2.將靶材和背板放置在釬焊臺上，升溫到綁定溫度
3.做靶材和背板金屬化
4.粘接靶材和背板
陶瓷靶材
ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，香檳金靶材加工，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，湖南香檳金靶材，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。
濺射技術：濺射是制備薄膜材料的主要技術之一，香檳金靶材哪家好，它利用離子源產生的離子，在真空中經過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是制備濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、太陽能光伏、記錄介質、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。
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第9年
